| 作 者: | 埃里克·费斯特 |
| 出版社: | 华中科技大学出版社 |
| 丛编项: | |
| 版权说明: | 本书为出版图书,暂不支持在线阅读,请支持正版图书 |
| 标 签: | 暂缺 |
| ISBN | 出版时间 | 包装 | 开本 | 页数 | 字数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 未知 | 暂无 | 暂无 | 未知 | 0 | 暂无 |
第 1 章
简介和术语
/ 1
1.1
研读本书的前提条件
/ 4
1.2
本书的组织结构
/ 4
1.3
杂散光术语
/ 6
1.4
小结
/ 10
参考文献
/ 10 第 2 章
杂散光分析中的基本辐射度学
/ 12
2.1
辐射度学术语
/ 13
2.2
辐射传输
/ 28
2.3
探测器响应度
/ 35
2.4
小结
/ 36
参考文献
/ 37 第 3 章
杂散光分析中的基本光线追迹
/ 40
3.1
建立杂散光模型
/ 40
3.2
光线追迹
/ 43 3.3
小结
/ 58
参考文献
/ 59 第 4 章
光学表面粗糙度和涂层引起的散射
/ 60
4.1
未镀膜的光学表面粗糙度引起的散射
/ 61
4.2
镀膜光学表面粗糙度引起的散射
/ 72
4.3
划痕和凹痕引起的散射
/ 74
4.4
小结
/ 75
参考文献
/ 75 第 5 章
微粒污染物引起的散射
/ 77
5.1
球形微粒的散射(米氏散射理论)
/ 79
5.2
微粒密度函数模型
/ 81
5.3
BSDF 模型
/ 90
5.4
污染物散射与表面粗糙度散射的比较
/ 95
5.5
体材料内杂质引起的散射
/ 95
5.6
分子污染物
/ 98
5.7
小结
/ 98
参考文献
/ 99 第 6 章
黑化表面处理引起的散射
/ 102
6.1
黑化表面处理的光散射的物理过程
/ 103
6.2
黑化表面处理的选择标准
/ 114
6.3
黑化表面处理的类型
/ 116
6.4
常用的黑化表面处理的概论
/ 121
6.5
小结
/ 122
参考文献
/ 123 第 7 章
鬼反射、孔径衍射和衍射光学元件的衍射
/ 125
7.1
鬼反射
/ 125 7.2
孔径衍射
/ 134
7.3
衍射光学元件的衍射
/ 140
7.4
小结
/ 144
参考文献
/ 145 第 8 章
针对杂散光抑制的光学设计
/ 147
8.1
使用视场光阑
/ 147
8.2
无遮拦光学设计
/ 149
8.3
大限度地减少孔径光阑与焦平面之间的光学元件数目
/ 151
8.4
里奥光阑使用方法
/ 152
8.5
使用光瞳掩模来遮挡支柱和其他遮挡物的衍射和散射
/ 155
8.6
大限度地减少孔径光阑的光照强度
/ 156
8.7
大限度地减少光学元件的数量,尤其是折射元件的数量
/ 156
8.8
避免将光学元件放置在中间像面上
/ 157
8.9
避免将鬼像聚焦在焦平面上
/ 157
8.10
降低渐晕(包括支柱的投影立体角)
/ 158
8.11
使用时间、频谱或偏振滤波器
/ 159
8.12
在红外系统中使用非均匀补偿和反射式暖屏
/ 160
8.13
小结
/ 163
参考文献
/ 164 第 9 章
挡板和冷屏设计
/ 165
9.1
主挡板和冷屏的设计
/ 166
9.2
主挡板和冷屏的叶片设计
/ 170
9.3
Cassegrain 型系统的挡板设计
/ 176
9.4
反射挡板叶片的设计
/ 181
9.5
掩模的设计
/ 183
9.6
小结
/ 184
参考文献
/ 185 第 10 章
BSDF 、 TIS 和系统杂散光的测量
/ 186
10.1
BSDF 的测量(散射计)
/ 186
10.2
TIS 的测量
/ 189
10.3
系统杂散光的测量
/ 190
10.4
内部杂散光测试
/ 196
10.5
小结
/ 196
参考文献
/ 196 第 11 章
杂散光工程过程
/ 198
11.1
定义杂散光要求
/ 200
11.2
光学系统设计与表面粗糙度、污染等级和涂层的选取
/ 202
11.3
构建杂散光模型,设置挡板和表面处理状态
/ 203
11.4
计算杂散光性能
/ 203
11.5
构建和测试
/ 204
11.6
流程结束
/ 205
11.7
小结
/ 206
11.8
经验和指南
/ 207
参考文献
/ 208