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第1章 绪论
1.1 基本概念
1.2 应用背景
1.3 研究现状
1.3.1 二次电子发射特性约研究
1.3.2 介质材料的带电特性研究
1.3.3 二次电子动态发射
第2章 二次电子发射理论模型及测量
2.1 二次电子发射数值理论模型
2.1.1 Vaughan模型
2.1.2 Furman模型
2.1.3 Monte Carlo数值模型
2.1.4 半物理模型
2.2 二次电子发射的测量
2.2.1 金属材料的二次电子发射测量
2.2.2 介质材料的二次电子发射测量
2.3 典型材料二次电子产额测量结果
2.3.1 常见金属材料的二次电子发射产额及能谱测量数据
2.3.2 常见介质材料的二次电子发射产额测量数据
第3章 二次电子发射表面调控技术
3.1 表面微结构抑制二次电子发射
3.1.1 表面构型抑制二次电子的基本原理
3.1.2 样品表面规则槽结构
3.1.3 收拢式表面陷阱结构
3.1.4 二维嵌套式陷阱结构抑制二次电子发射
3.1.5 抑制二次电子的表面构型技术工艺
3.2 表面镀膜调控二次电子发射
3.2.1 表面镀膜技术调控SEY的原理
3.2.2 表面镀膜技术抑制SEY
3.2.3 表面镀膜技术增强SEY
3.2.4 其他技术
3.2.5 表面镀膜技术与表面构型技术的结合
第4章 介质材料的带电及二次电子动态发射
4.1 电子照射介质材料带电特性
4.1.1 电荷输运理论及模型
4.1.2 充电动态模拟流程
4.1.3 电子辐照介质带电分布特性
4.2 介质带电下的二次电子发射动态特性
4.2.1 带电平衡数值模型
4.2.2 样品参数对平衡模式的影响
第5章 电子轰击对介质材料的影响
5.1 电子辐照带电效应下的微波介电特性
5.1.1 多能量电子束辐照
5.1.2 带电效应影响介电常数
5.1.3 对DRA的影响
5.2 电子轰击对材料表面的影响
5.2.1 放电所需的电子辐照量测试
5.2.2 表面放电电位数值模拟
5.2.3 电子轰击下的表面释气
5.2.4 表面化学键与表面形貌
