半导体集成电路（第二版）

第1章 绪论

1.1 半导体集成电路的概念

1.1.1 半导体集成电路的基本概念

1.1.2 半导体集成电路的分类

1.2 半导体集成电路的发展过程

1.3 半导体集成电路的发展规律

1.4 半导体集成电路面临的问题

1.4.1 深亚微米集成电路设计面临的问题与挑战

1.4.2 深亚微米集成电路性能面临的问题与挑战

1.4.3 深亚微米集成电路工艺面临的问题与挑战

技术拓展：Chiplet（芯粒）

基础习题

高阶习题

第2章 双极集成电路中的元件形成及其寄生效应

2.1 双极集成电路的制造工艺

2.1.1 双极型晶体管的单管结构和工作原理

2.1.2 双极集成晶体管的结构与制造工艺

2.2 集成双极晶体管的有源寄生效应

技术拓展：BCD工艺

基础习题

高阶习题

第3章 MOS集成电路中晶体管的形成及其寄生效应

3.1 MOSFET晶体管的结构及制造工艺

3.1.1 MOSFET晶体管器件结构与工作原理

3.1.2 MOSFET晶体管的制造工艺

3.2 CMOS集成电路的制造工艺

3.2.1 n阱CMOS工艺

3.2.2 p阱CMOS工艺

3.2.3 双阱CMOS工艺

3.3 MOS集成电路中的有源寄生效应

3.3.1 场区寄生MOSFET

3.3.2 寄生双极型晶体管

3.3.3 CMOS集成电路中的闩锁效应

3.4 深亚微米CMOS集成电路工艺

技术拓展： 缘体上硅技术

基础习题

高阶习题

第4章 集成电路中的无源元件

4.1 集成电阻器

4.1.1 双极集成电路中常用的电阻

4.1.2 MOS集成电路中常用的电阻

4.2 集成电容器

4.2.1 双极集成电路中常用的集成电容器

4.2.2 MOS集成电路中常用的电容器

4.3 互连线

4.3.1 多晶硅互连线

4.3.2 扩散层连线

4.3.3 金属互连线

技术拓展：修调技术

基础习题